As tensões entre Estados Unidos e China continuam avançando, agora com foco no setor de tecnologia. De acordo com o South China Morning Post, cientistas do Instituto de Tecnologia de Harbin estão desenvolvendo uma fonte de luz para litografia ultravioleta extrema (EUV) com tecnologia única, um progresso fundamental na produção de chips semicondutores avançados. Esta iniciativa busca neutralizar as sanções impostas pelos Estados Unidos e ser um passo à frente na estratégia da China para superar as restrições.
O projeto, liderado pelo professor Zhao Yongpeng, adota uma abordagem diferente dos métodos ocidentais de geração de luz laser EUV e usa uma tecnologia mais eficiente, econômica e compacta. Isso demonstra a determinação da China em avançar tecnologicamente em um contexto de sanções cada vez mais severas.
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Inovação em meio a sanções: a aposta da China em sua indústria de tecnologia
O desenvolvimento de máquinas para fotolitografia, considerado um dos mais complexos na fabricação de semicondutores, tem sido historicamente dominado por empresas ocidentais, como a ASML.
Esta conquista ocorre num cenário de crescente atrito econômico. Os Estados Unidos recentemente expandiram sua lista negra de empresas chinesas restritas e afetaram mais de 140 entidades, incluindo gigantes como Tencent e CATL. Essas medidas buscam limitar o acesso da China à tecnologia avançada, especialmente em setores como inteligência artificial e armamento militar.
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